离子注入 离子注入区 离子注入机 离子注入法 离子束注入 离子注入结 离子注入层 磷离子注入 硼离子注入 离子注入器 离子注入设备 倾斜离子注入 沟道离子注入 离子注入剂量 离子注入损伤 离子注入电阻 离子注入掺杂 离子注入器件 阱区离子注入 离子注入掩膜 分子离子注入 离子注入杂质 离子注入技术 离子注入沟道 掩蔽离子注入 离子注入吸除 氧离子注入器 离子注入装置 等离子体注入 倾角离子注入 离子注入逻辑 高温离子注入 离子注入工艺 高能离子注入 低能离子注入 注入等离子体 发射区离子注入 离子注入分布图 耗尽区离子注入 中性离子注入器 高剂量离子注入 离子注入氧化物 离子注入后退火 离子注入损伤区 无掩模离子注入 等离子体注入器 低剂量离子注入 场氧化层离子注入 离子喷射离子注入 离子注入隔离技术 离子注入集成电路 双重离子注入工艺 MOS结构离子注入 高功率离子注入装置 双极型掐用离子注入 离子注入基极晶体管 大电流离子注入装置 棒状等离子体注入器 离子注入用掩蔽工序 离子注入场效应晶体管 双极型器件用离子注入 对非晶半导体离子注入 离子注入金属氧化物半导体 等离子体注入等离子体注射 金属-氧化物-半导体结构离子注入